抛光用氧化铝
1.精抛
⑴.概要与特点
本公司生产的A-3、A-5、A-8、A-10氧化铝产品，采用独特的生产工艺，利用国内外先进的生产设备，通过严谨的生产流程制作而成。该产品具有以下优越性能：
晶相稳定、硬度高、颗粒小且分布均匀；
磨削力强、抛光快、光度亮、镜面效果好；
研磨效率高，抛光效果好，研磨效率远远高于二氧化硅等软质磨料，表面光洁度优于白刚玉的抛光效果，切削力强、出光快、能抛出均匀而明亮的兴泽。
⑵.规格
⑶.用途
水晶、人造宝石、锆石、玻璃、天然宝石、玉石、翡翠、玛瑙、等振动抛光（机器抛光、滚动抛光）、手动抛光（研磨抛光）等。
铝材、铜材、不锈钢、石材、玻璃、墙地砖等研磨抛光。
金属表面抛光。
抛光条、抛光浆、油漆表面、亚克力、不锈钢镜面、非铁金属、玉石，大理石、花冈岩、水晶、液晶玻璃和光学玻璃的表面抛光。
汽车油漆打磨抛光，手机外壳油漆抛光等。
2.半导体抛光
⑴.产品介绍：本公司生产的系列研磨抛光微粉，是以专用氧化铝为主要原料，添加特殊矿化剂，晶粒形貌呈平板状。硬度仅次于金刚石，是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。
⑵.性能：平板型氧化铝研磨抛光粉颗粒呈独特的平板状结构，硬度高达莫氏九级，磨削力强，不易产生划痕，可得到 率、高精度的被加工表面，有特殊设计的粒度分布，质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。 
⑶.特点 ：平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的 区别是：片状，硬度高，粒度均匀。 
 特点为： 
  .形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍； 
  .由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10至15，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99以上； 
   .由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40至50； 
  .与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的60--70； 
  .由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50-60。
⑸.用途： 
.电子行业：半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体的研磨抛光。 
  .玻璃行业：硬质玻璃和显象管玻壳的加工。 
  .涂附行业：特种涂料和等离子喷涂的填充剂。 
  .金属和陶瓷加工业。