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京迈研1714 二硒化钛靶材TiSe2target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料
¥1000.00
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京迈研 1014有色金属环形铜靶材 定制尺寸 纯度5N 磁控溅射材料
¥500.00
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京迈研3445二硅化钼靶材 MoSi2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥1000.00
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京迈研 1946硒化锗靶材GeSe target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料
¥1000.00
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京迈研3447 锑化镓靶材GaSb磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥1000.00
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【参数说明】
支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
【产品介绍】
六硼化镧 LaB6 具有CsCl结构 属于简单立方晶系,其晶体结构如图一所示,大球代表La元素 ,不同的是B6八面体团簇占据了Cl的位置,La占据了Cs的位置。一般来讲LaB6的颜色为紫色,但由于LaB6中存在着结构缺陷,因La:B比例的不同而有变化,如黑色青色等等。
中文名 | 六硼化镧 | 室温电阻 | 15~27 μΩ |
熔点 | 2715 ℃ | 密度 | 4.7 g/cm^3 |
【关于我们】
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位 ,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。
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京迈研3571铝酸锶靶材Sr3Al2O6磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥1900.00
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