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京迈研1714 二硒化钛靶材TiSe2target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料
¥1000.00
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京迈研 1014有色金属环形铜靶材 定制尺寸 纯度5N 磁控溅射材料
¥500.00
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京迈研3445二硅化钼靶材 MoSi2磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥1000.00
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京迈研 1946硒化锗靶材GeSe target 硒化物陶瓷靶材 磁控溅射镀膜材料
¥1000.00
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京迈研3447 锑化镓靶材GaSb磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
¥1000.00
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京迈研3631铝硅合金靶材 AISi合金磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料
【参数说明】
支持靶材定制,请告知靶材产品的元素、比例 重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!
【产品介绍】
铝硅合金 aluminium silicon alloy)是一种以铝、硅为主成分的锻造和铸造合金, 一般含硅量为11%,同时加入少量铜、铁、镍以提高强度,密度约为2.6~2.7g/cm3,导热系数约为101~126W/(m·℃),杨氏模量为71.0GPa,冲击值约为7~8.5J,疲劳极限为±45MPa。
AI-Si合金由于质量轻、导热性能好,又具有一定强度、硬度以及耐蚀性能,因此,在汽车工业及机器制造业中广泛用来制作一些滑动摩擦条件下使用的零件。
【关于我们】
服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到了付款,质量保证,售后无忧!
产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可供质检报告。
加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
注 :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。
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京迈研3571铝酸锶靶材Sr3Al2O6磁控溅射材料 电子束镀膜蒸发料¥1900.00
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