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低温反应器 CYDC-0510 低温恒温槽 卧式低温循环器
低温恒温槽是自带制冷和加热的恒温源, 可在机内水槽进行恒温实验,或通过软管与其他设备相连,作为恒温源配套使用。泛用于石油、化工、电子仪表、物理、化学、生物工程、医药卫生、生命科学、轻工食品、物性测试及化学分析等研究部门,高等院校,企业质检及生产部门,为用户工作时提供一个热冷受控,温度均匀恒定的场源,对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试,也可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源或冷源。
那么低温恒温槽配套使用的黑体炉作用是什么呢?
黑体炉指能吸收外部的 能量,同时能 出自身能量的物体,红外热像仪温度标定与检测设备。
黑体的主要功能是产生温度下的标准 。因此在温度计量中主要用于检定多种 温度计,如光学高温计、红外温度计、红外热像仪等。
随着科学技术的发展,黑体的用途已经不局限于在温度计量方面的应用。在光学方面,已经普遍采用黑体作为标准 源和标准背景光源。在测量领域里,黑体已经用于测量材料的光谱发射、吸收和反射特性。在物理的研究中,黑体已经用作为产生中子源。
不同的用途对黑体的要求是不一样的。在温度计量领域,主要是利用黑体 和温度的对应关系,因此要求黑体的发射率越高越好。要求黑体的 能量按照光谱分布(也就是黑体光谱 能量、也称为单色能量)都符合普朗克定律,这样我们在检定或校准 温度计时,以黑体的温度(或标准 温度计)的示值,来修正 温度计的偏差。因此在选择黑体时通常是选择发射率较高的腔式黑体,同时也要注意黑体腔口直径,温度均匀性和 温度不确定度。
在光学应用中,通常要求 源的 面积较大,但是温度不高,只关注 面的温度均匀性而不关注 能量与温度对应的准确性,因此选择面源黑体较多。但随着科学技术的发展,现在光学应用中也已经用到大口径的高温黑体,但对发射率的要求可以低一点,达到0.98以上即可,像某些腔些黑体的直径可以达到65mm,发射率达到了0.995,也适合做红外的校验。
对于测试和研究中所采用的黑体,是根据需要设计,种类繁多。用于材料光谱发射率测量的黑体,是一个界于腔式黑体和面源黑体之间的黑体,发射面只有Φ10mm。用于 温度仪器中定点校准用的黑体,是一个定温度的 能量很稳定的光源。在系统使用的黑体中小只有小手指大,因此称为指状黑体;为了模拟目标,在一个平面上分隔成多个不同温度区域的面源黑体称为目标模拟器。等等。
低温恒温槽装置为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围 的温度J确控制,应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,低温测 量和检定,样品保存等浸入式或外循环应用。
低温恒温槽装置精密恒温控制系统,整个量程范围的温度J确可控,噪音低,制冷效率高。其它制冷关键配件也采用全进口配件;制冷系统具备高压保 护器,确保制冷系统安全。低温恒温槽装置采用全封闭磁力泵循环搅拌,温场均匀, 无泄漏,传感器开路、短路保护、双重温度保护等功能,确保仪器安全运行。
低温恒温槽装置可在机内水槽进行恒温实验,或通过软管与其他设备相连,作为恒温源配套使用,为用户工作时提供一个热冷受控,温度均匀恒定的场源,对试验样品或生产的产品进行恒定温度试验或测试,可作为直接加热或制冷和辅助加热或制冷的热源。低温恒温槽装置内置新一代温度控制程序,确保设备运行稳定,全封闭压缩机组制冷,制冷系统具有过热、过电流多重保护装置。
低温恒温槽装置可以把槽内被恒温液体外引,建立恒温场,槽内冷液可外引,冷却机外实验容器,也可在槽内直接进行低温、恒温实验,采用模拟数字PID自动控制系统,温度数字显示,内胆、台面均为全不锈钢,清洁卫生,美观耐腐蚀。低温恒温槽装置为用户提供热冷受控,温度均匀恒定的场源,也可作为直接加热、制冷、辅助加热、辅助制冷的热源或冷源,整个量程范围的温度J确控制,应用于石油化工、制药等化学反应工艺过程控制,半导体扩散炉扩散工艺控制,低温测量和检定,样品保存等浸入式或外循环应用。
低温恒温槽装置精密恒温控制系统,整个量程范围的温度J确可控,噪音低,制冷效率高。其它制冷关键配件也采用全进口配件;制冷系统具备高压保护器,确保制冷系统安全。低温恒温槽装置采用全封闭磁力泵循环搅拌,温场均匀, 无泄漏,传感器开路、短路保护、双重温度保护等功能,确保仪器安全运行。
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