小型溅射仪

KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。

小型溅射仪（Sputtering System）是一种利用溅射技术制备薄膜的设备，主要用于制备和研究金属、合金、氧化物、硅等材料的薄膜。

它通常由四个主要组件组成：真空室、溅射腔体、靶材和控制系统。真空室是封闭的金属或玻璃盒子，用于维持真空环境，以避免杂质和气体干扰制备过程。溅射 是用于向靶材表面发射离子的设备，它可以控制溅射速率和角度，从而控制薄膜的厚度和均匀性。靶材是被准备薄膜所需的原材料，其材料和形状根据要制备的薄膜类型而变化。控制系统是用于控制整个设备的电子和电气系统，包括真空泵、用于创建和维持真空的电子控制器和电源、溅射 

控制器和监控器等。

小型溅射仪通常用于研究实验室或小批量生产，它具有制备稳定、纯净、均匀膜的优点，可以制备几纳米到数百纳米之间的薄膜。它也被广泛应用于电子器件、太阳能电池、显示器件、硬盘驱动器等领域。